光掩模结构及其制造方法

摘要

本发明提供一种光掩模结构，其结构至少包括透明基底、位于透明基底上的遮蔽层、以及覆盖于遮蔽层与透明基底的上的透明导电薄膜，其中遮蔽层具有曝光图案。再者，此光掩模的制造方法，此方法是在透明基底上形成具有曝光图案之遮蔽层，以及在透明基底与遮蔽层上均匀覆盖透明导电薄膜。

主权项

1.一种光掩模结构，包括：一透明基底；一遮蔽层，位于该透明基底上，且该遮蔽层具有一曝光图案；以及一透明导电薄膜，覆盖于该遮蔽层与该透明基底之上。