用于沉积薄膜的双频等离子激发

摘要

本发明涉及一种在反应器中的透明衬底上沉积高质量薄膜的设备。透明衬底可以由玻璃、石英或聚合物如塑料等制成。在处理室中加热透明衬底并将处理气流通入处理室中。该设备分别从高频和低频电源中产生高频电源输出和低频电源输出。高频电源输出的频率等于或大于约13兆赫兹，功率在约1到5千瓦之间，而低频电源输出的频率等于或小于约2兆赫兹，功率在约300瓦到2千瓦之间。高频电源输出和低频电源输出叠加在一起，从处理气流中激发等离子，在约0.4到3乇的压力下、和约250到450℃的温度下，在透明衬底上沉积光滑的薄膜。

主权项

1.一种用于沉积薄膜的设备，包括：可以放置待处理衬底的真空室；喷头；通过所述喷头与所述真空室连接的、将气流通入处理室的处理气源；与喷头相对放置、用于支撑衬底并且具有四个角的感受器，该感受器的中间部分和所述四个角分别通过分离的接地路径接地；以等于或大于13MHz的频率输出振荡电信号到喷头的高频电源；以及以等于或小于2MHz的频率输出振荡电信号到喷头的低频电源，该高频和低频电源的输出叠加，以从处理室中的处理气体中激发等离子，将薄膜沉积到衬底上。