发明名称 | 各向异性干腐蚀方法 | ||
摘要 | 在相对于氧化硅膜、多晶硅膜和硅膜有选择地各向异性地干腐蚀氮化硅膜的方法中,衬底温度被设置在10℃或更低,并且包含氟、碳和氢的复合气体与一氧化碳(CO)相混合的气体被用做反应气体。借助于这种方法,有可能相对于氧化硅膜、多晶硅膜和硅膜的任意一种有选择地各向异性地干腐蚀氮化硅膜。 | ||
申请公布号 | CN1113396C | 申请公布日期 | 2003.07.02 |
申请号 | CN99100230.X | 申请日期 | 1999.01.19 |
申请人 | 恩益禧电子股份有限公司 | 发明人 | 原岛启一 |
分类号 | H01L21/306;H01L21/311 | 主分类号 | H01L21/306 |
代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 穆德骏;黄敏 |
主权项 | 1.各向异性干腐蚀方法,包括相对于氧化硅膜、多晶硅膜和硅膜有选择地各向异性地干腐蚀氮化硅膜的步骤,所述腐蚀是在这样的条件下进行的,即衬底温度是10℃或更低,并且包含氟、碳和氢的复合气体与一氧化碳相混合的气体被用做反应气体,一氧化碳气体与反应气体总气体流量混合的体积百分比是70到95。 | ||
地址 | 日本神奈川 |