发明名称 |
振幅掩膜及用该掩膜制作长周期光栅滤波器的装置和方法 |
摘要 |
振幅掩膜及用该掩膜制作长周期光栅滤波器的设备和方法。在使激光以选择方式传播到光纤中制作长周期光栅时,振幅掩膜周期地使激光传播到光纤上。振幅掩膜包括两个具有周期性交替的通过激光的透过区和防止激光通过的非透过区的掩膜,二掩膜按相反方向转动,使透过区的周期改变,从而给出一个与转角有关的振幅掩膜周期。 |
申请公布号 |
CN1113253C |
申请公布日期 |
2003.07.02 |
申请号 |
CN98811862.9 |
申请日期 |
1998.12.08 |
申请人 |
三星电子株式会社 |
发明人 |
章絑宁 |
分类号 |
G02B5/18;G03F7/20;//G02B6/16 G02B6/34 |
主分类号 |
G02B5/18 |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
姜丽楼 |
主权项 |
1.一种振幅掩膜,在使激光以选择的方式传播到光纤中制作长周期光栅时,该振幅掩膜周期性地把激光传播到光纤上,所述掩膜包括:具有周期交替的透过激光的透过区和防止透过激光的非透过区的两个掩膜,其中这两个掩膜沿相反的方向以相同的角度连续转动,因而所述透过区的周期连续地改变。 |
地址 |
韩国京畿道 |