| 主权项 |
1.一种反射性基体,其中至少有一由具有一光学反射性能之材料制成之电极被设置于一绝缘底层基体上,且该至少一电极之一上表面具有一无任何平坦部份之连续波形;其中数个由一感光性树脂制成之突出部份被设置于该绝缘底层基体与该至少一电极间;其中该等多数突出部份具有二或更多不同高度且系随机组合而成;且其中该至少一电极系一形成于该绝缘底层基体上之一矩阵内之像素电极。2.如申请专利范围第1项所述之反射性基体,其中一聚合树脂薄膜被设置于该电极下,且该聚合树脂薄膜系由一感光性树脂制成。3.如申请专利范围第1项所述之反射性基体,其中一聚合树脂薄膜被设置于该电极下,且该聚合树脂系由一感光性树脂制成。4.如申请专利范围第1项所述之反射性基体,其中一开关元件被设置于该绝缘底层基体上,且该开关元件系被该聚合树脂薄膜覆盖。5.如申请专利范围第1项所述之反射性基体,其中一具有突出与凹陷部份之第一薄膜与一藉由涂覆一液体材料于该等突出部份上与相邻突出部份间并硬化该液体材料而得之第二薄膜被形成于该绝缘底层基体侧边上之该电极下。6.如申请专利范围第5项所述之反射性基体,其中该第一薄膜系由一感光性树脂制成。7.如申请专利范围第5项所述之反射性基体,其中设置有一开关元件,且该开关元件系被该第一薄膜覆盖。8.如申请专利范围第5项所述之反射性基体,其中设置有一开开元件,且该开关元件系被该第二薄膜覆盖。9.如申请专利范围第1项所述之反射性基体,其中一具有突出与凹陷部份之第一薄膜与一藉由涂覆一液体材料于该等突出部份上与相邻突出部份间并硬化该液体材料而得之第二部份被形成于该绝缘底层基体侧边上之该电极下。10.如申请专利范围第9项所述之反射性基体,其中该第一薄膜系由一感光性树脂制成。11.如申请专利范围第9项所述之反射性基体,其中设置有一开开元件,且该开关元件系被该第一薄膜覆盖。12.如申请专利范围第9项所述之反射性基体,其中设置有一开开元件,且该开关元件系被该第二薄膜覆盖。13.一种液晶显示装置,其包含:一反射性基体,其中至少有一由具有一光学反射性能之材料制成的电极被设置于一绝缘底层基体上,且该至少一电极之一上表面具有一无任何平坦部份之连续波形;其中数个由一感光性树脂制成之突出部份被设置于该绝缘底层基体与该至少一电极间;该等多数突出部份具有二或更多不同高度,且系随机组合而成;且该至少一电极系一形成于该绝缘底层基体上之一矩阵内之像素电极;一第二基体,其系相对于该反射性基体而设置;以及一液晶层,其系密封于该反射性基体与该第二基体间。图式简单说明:第1图显示反射活性矩阵基体第1例之平面图。第2图为第1图中沿着A-A线所取之横截面图。第3a至3e图为说明于第1图反射活性矩阵基体中之图素电极制造过程的横截面图。第4图为显示在制造第1例之反射活性矩阵基体时所用的光掩模。第5图说明测量该具有光学反射性能之图素电极的方法。第6图为说明产生干涉光的示意图。第7a图显示第1比较例之图素电极的横截面图。第7b图显示第2比较例之图素电极的横截面图。第8图显示第1例中之图素电极波长与反射比之间的关系。第9a图显示第1比较例中之图素电极波长与反射比之间的关系。第9b图显示第2比较例中之图素电极波长与反射比之间的关系。第10a至10c图之一些横截面图,说明以另一种方法制造第1图之图素电极的过程。第11图显示第3例之液晶显示装置的横截面图。 |
