发明名称 MULTILAYER STRUCTURE, USED IN PARTICULAR AS A MATERIAL WITH HIGH RELATIVE PERMITTIVITY
摘要 Structure multicouche, utilisée notamment en tant que matériau de forte permittivité relative, caractérisée en ce qu'elle comporte une pluralité de couches distinctes, chacune d'une épaisseur inférieure à 500 .ANG., et réalisée à base de dioxyde d'hafnium (HfO2), de dioxyde de Zirconium (ZrO2) et d'alumine (Al2O3). En pratique, les couches de dioxyde d'hafnium, de dioxyde de Zirconium et d'alumine forment des alliages de formule Hf x ZrAl y O z. Avantageusement, la st~chiométrie des alliages Hf x ZrAl y O z varie d'une couche à l'autre.
申请公布号 CA2415312(A1) 申请公布日期 2003.06.30
申请号 CA20022415312 申请日期 2002.12.30
申请人 MEMSCAP 发明人 GIRARDIE, LIONEL
分类号 C01G27/00;C23C14/08;C23C16/40;C23C16/44;C23C16/455;H01B3/12;H01G4/20;H01G4/33;H01L21/28;H01L21/316;H01L21/822;H01L21/8242;H01L27/04;H01L27/108;H01L29/51;H01L29/78;(IPC1-7):B32B15/20;B32B9/00 主分类号 C01G27/00
代理机构 代理人
主权项
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