发明名称 BiCMOS-Struktur, Verfahren zu ihrer Herstellung und Bipolartransistor für eine BiCMOS-Struktur
摘要
申请公布号 DE10162074(A1) 申请公布日期 2003.06.26
申请号 DE20011062074 申请日期 2001.12.06
申请人 IHP GMBH - INNOVATIONS FOR HIGH PERFORMANCE MICROELECTRONICS/INSTITUT FUER INNOVATIVE MIKROELEKTRONIK 发明人 EHWALD, KARL-ERNST;FOX, ALEXANDER;KNOLL, DIETER;HEINEMANN, BERND;MARSCHMAYER, STEFFEN;BLUM, KATRIN
分类号 H01L21/331;H01L21/8249;H01L27/06;H01L29/737;(IPC1-7):H01L29/73;H01L29/732;H01L21/824 主分类号 H01L21/331
代理机构 代理人
主权项
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