发明名称 | 低温相偏硼酸钡单晶薄膜的制备方法 | ||
摘要 | 一种低温相偏硼酸钡单晶薄膜的制备方法,其特征在于它是采用电阻加热的液相外延炉,将高温相的偏硼酸钡(α-BBO)单晶衬底作为大面积的籽晶,在β-BBO单晶的结晶温度下(低于相变温度925℃),在高速旋转的α-BBO单晶衬底与BBO多晶料的饱和溶液接触过程中生长一层β-BBO单晶薄膜。本方法可以在α-BBO衬底上生长出符合需要的微米量级的大面积β-BBO单晶薄膜,而且不用加工即可以使用,不仅节省材料,还可以大大降低成本,对激光技术的发展具有重要的意义。 | ||
申请公布号 | CN1425810A | 申请公布日期 | 2003.06.25 |
申请号 | CN02155040.9 | 申请日期 | 2002.12.20 |
申请人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明人 | 徐军;赵广军;刘军芳 |
分类号 | C30B19/02;C30B29/22 | 主分类号 | C30B19/02 |
代理机构 | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人 | 张泽纯 |
主权项 | 1.一种低温相偏硼酸钡单晶薄膜的制备方法,其特征在于它是采用电阻加热的液相外延炉,将高温相偏硼酸钡(α-BBO)单晶衬底作为大面积的籽晶,在低温相偏硼酸钡β-BBO单晶的结晶温度下(低于相变温度925℃),在高速旋转的α-BBO单晶衬底与BBO多晶料和氧化钠的饱和溶液接触过程中生长一层β-BBO单晶薄膜。 | ||
地址 | 201800上海市800-211邮政信箱 |