发明名称 低温相偏硼酸钡单晶薄膜的制备方法
摘要 一种低温相偏硼酸钡单晶薄膜的制备方法,其特征在于它是采用电阻加热的液相外延炉,将高温相的偏硼酸钡(α-BBO)单晶衬底作为大面积的籽晶,在β-BBO单晶的结晶温度下(低于相变温度925℃),在高速旋转的α-BBO单晶衬底与BBO多晶料的饱和溶液接触过程中生长一层β-BBO单晶薄膜。本方法可以在α-BBO衬底上生长出符合需要的微米量级的大面积β-BBO单晶薄膜,而且不用加工即可以使用,不仅节省材料,还可以大大降低成本,对激光技术的发展具有重要的意义。
申请公布号 CN1425810A 申请公布日期 2003.06.25
申请号 CN02155040.9 申请日期 2002.12.20
申请人 中国科学院上海光学精密机械研究所 发明人 徐军;赵广军;刘军芳
分类号 C30B19/02;C30B29/22 主分类号 C30B19/02
代理机构 上海新天专利代理有限公司 代理人 张泽纯
主权项 1.一种低温相偏硼酸钡单晶薄膜的制备方法,其特征在于它是采用电阻加热的液相外延炉,将高温相偏硼酸钡(α-BBO)单晶衬底作为大面积的籽晶,在低温相偏硼酸钡β-BBO单晶的结晶温度下(低于相变温度925℃),在高速旋转的α-BBO单晶衬底与BBO多晶料和氧化钠的饱和溶液接触过程中生长一层β-BBO单晶薄膜。
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