| 主权项 |
1.一种遮蔽罩,其载体材料(10)由透明光学单轴晶体构成,其特征在于,晶体主轴(A)几乎垂直于遮蔽罩面(1)。2.如申请专利范围第1项所述之遮蔽罩,其中主轴以+5垂直于遮蔽罩面(1)。3.一种遮蔽罩,载体材料(10)由MgF2构成,其特征在于,MgF2主轴(A)几乎垂直于遮蔽罩面(1)。4.如申请专利范围第3项所述之遮蔽罩,其中主轴以+5垂直于遮蔽罩面(1)。5.如申请专利范围第1项至第4项中至少一项之遮蔽罩,其中设有一冷却装置(5,13,14,50,51,52)。6.如申请专利范围第5项所述之遮蔽罩,其中冷却装置(5,13,14,50,51,52)设有一流体(50)。7.一种设有一照明系统(2)与一载体材料(10)为氟化镁之遮蔽罩(1)的微石版印刷曝光设备,其特征在于,照明系统(2)提供径向偏振之光(20,PL,PR),氟化镁之晶体主轴几乎在遮蔽罩(1)光轴(A)的方向上。8.一种设有一照明系统(2)与一载体材料(10)为透明光学单轴晶体之遮蔽罩(1)的微石版印刷曝光设备,其特征在于,照明系统(2)提供径向偏振之光(20,PL,PR),载体材料(10)之主轴几乎在遮蔽罩(1)光轴(A)的方向上。9.如申请专利范围第7项或第8项所述之曝光设备,其设有如下至少一遮蔽罩:–一载体材料(10)由透明光学单轴晶体构成,其特征在于,晶体主轴(A)几乎垂直于遮蔽罩面(1)之遮蔽罩,其中主轴以+5垂直于遮蔽罩面(1);–一载体材料(10)由MgF2构成,其特征在于,MgF2主轴(A)几乎垂直于遮蔽罩面(1)之遮蔽罩,其中主轴以+5垂直于遮蔽罩面(1);–一载体材料(10)由透明光学单轴晶体构成,其特征在于,晶体主轴(A)几乎垂直于遮蔽罩面(1)之遮蔽罩,其中设有一冷却装置(5,13,14,50,51,52);–一载体材料(10)由透明光学单轴晶体构成,其特征在于,晶体主轴(A)几乎垂直于遮蔽罩面(1)之遮蔽罩,其中主轴以+5垂直于遮蔽罩面(1),以及其中设有一冷却装置(5,13,14,50,51,52);–一载体材料(10)由MgF2构成,其特征在于,MgF2主轴(A)几乎垂直于遮蔽罩面(1)之遮蔽罩,其中设有一冷却装置(5,13,14,50,51,52);–一载体材料(10)由MgF2构成,其特征在于,MgF2主轴(A)几乎垂直于遮蔽罩面(1)之遮蔽罩,其中主轴以+5垂直于遮蔽罩面(1),以及其中设有一冷却装置(5,13,14,50,51,52);–一载体材料(10)由透明光学单轴晶体构成,其特征在于,晶体主轴(A)几乎垂直于遮蔽罩面(1)之遮蔽罩,其中设有一冷却装置(5,13,14,50,51,52),其中冷却装置(5,13,14,50,51,52)设有一流体(50);–一载体材料(10)由透明光学单轴晶体构成,其特征在于,晶体主轴(A)几乎垂直于遮蔽罩面(1)之遮蔽罩,其中主轴以+5垂直于遮蔽罩面(1),以及其中设有一冷却装置(5,13,14,50,51,52),其中冷却装置(5,13,14,50,51,52)设有一流体(50);–一载体材料(10)由MgF2构成,其特征在于,MgF2主轴(A)几乎垂直于遮蔽罩面(1)之遮蔽罩,其中设有一冷却装置(5,13,14,50,51,52),其中冷却装置(5,13,14,50,51,52)设有一流体(50);–一载体材料(10)由MgF2构成,其特征在于,MgF2主轴(A)几乎垂直于遮蔽罩面(1)之遮蔽罩,其中主轴以+5垂直于遮蔽罩面(1),以及其中设有一冷却装置(5.13,14,50,51,52),其中冷却装置(5,13,14,50,51,52)设有一流体(50)。10.一种遮蔽罩(1),其载体材料(10)由晶体构成,其特征在于一流体冷却。11.如申请专利范围第10项所述之遮蔽罩(1),其中平行于遮蔽罩至少设一平板(13,14),遮蔽罩(1)与平板(13,14)间流动着一流体。12.如申请专利范围第10项所述之遮蔽罩(1),其中平板(13,14)由晶体构成,尤其是CaF2或MgF2。13.一种薄膜(13,14),其由氟化晶体制成,尤其是CaF2.BaF2或MgF2。图式简单说明:图1系本发明投影曝光设备之示意图。 |
