发明名称 | 半导体元件及系统、晶片、晶片的用途及其测量方法 | ||
摘要 | 本发明涉及提供在半导体材料上的结构形式的电荷检测半导体元件,该元件包括具有晶体管栅极的MOS场效应晶体管和具有电容器栅极的MOS电容器形式的非易失存储单元。本发明还涉及包括电荷检测半导体元件和参考半导体元件的系统。本发明还涉及晶片以及具有多个电荷检测半导体元件和/或系统的晶片的用途。最后,本发明涉及在晶片处理期间用于定量和定性地测量晶片带电的方法。根据本发明,可以精确测量在晶片处理和半导体元件制造、特别是等离子体和离子注入工艺期间出现的电荷。可以连续地监视该工艺,并且用标准CMOS技术制造该结构。 | ||
申请公布号 | CN1424751A | 申请公布日期 | 2003.06.18 |
申请号 | CN02156342.X | 申请日期 | 2002.11.05 |
申请人 | 皇家菲利浦电子有限公司 | 发明人 | H·U·施雷德尔 |
分类号 | H01L21/66 | 主分类号 | H01L21/66 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 梁永 |
主权项 | 1、一种提供在半导体材料上的结构形式的电荷检测半导体元件(9),该元件包括具有晶体管栅极(7a)的MOS场效应晶体管和具有电容器棚极(7b)的MOS电容器形式的非易失存储单元,其特征在于天线(1、2、3)与电容器栅极(7b)可操作连接,并且电容器栅极(7b)以另外的可操作连线连接到晶体管栅极(7a),以使出现在天线(1、2、3)上的电荷可以储存在存储单元中,并根据需求可以取出,而且该结构设置成与CMOS技术相容。 | ||
地址 | 荷兰艾恩德霍芬 |