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发明名称 A method to create a controllable and reproductible dual copper damascene structure
摘要
申请公布号 EP1083597(A3) 申请公布日期 2003.06.18
申请号 EP20000640008 申请日期 2000.07.18
申请人 CHARTERED SEMICONDUCTOR MANUFACTURING PTE LTD. 发明人 GUPTA, SUBHASH;KWOK KEUNG HO, PAUL;SHENG ZHOU, MEI
分类号 H01L21/3205;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/768 主分类号 H01L21/3205
代理机构 代理人
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