| 发明名称 |
Verfahren und Vorrichtung zur Defektanalyse von Wafern |
| 摘要 |
Ein Verfahren zur Defektanalyse von Wafern und ein Defektanalysesystem sind offenbart. Das Defektanalysesystem mit einer optischen Abtastvorrichtung und einer Bildverarbeitungseinheit ist dadurch gekennzeichnet, dass die optische Abtastvorrichtung ein Flachbettscanner ist.
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| 申请公布号 |
DE10157244(A1) |
申请公布日期 |
2003.06.12 |
| 申请号 |
DE20011057244 |
申请日期 |
2001.11.22 |
| 申请人 |
LEICA MICROSYSTEMS SEMICONDUCTOR GMBH |
发明人 |
MAINBERGER, ROBERT |
| 分类号 |
G01N21/95;G03F7/20;(IPC1-7):G01N21/95;G01N21/88 |
主分类号 |
G01N21/95 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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