发明名称 PLASMA PROCESSING SYSTEM
摘要
申请公布号 AU2002355030(A1) 申请公布日期 2003.06.10
申请号 AU20020355030 申请日期 2002.11.26
申请人 TOKYO ELECTRON LIMITED;KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA 发明人 TOSHIHIRO HAYAMI;ETSUJI ITO;ITSUKO SAKAI
分类号 H01J37/32;(IPC1-7):H01L21/02;C23C16/50;C23C14/34;H01L21/205;H01L21/306 主分类号 H01J37/32
代理机构 代理人
主权项
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