| 发明名称 |
Method and apparatus for chemical vapor deposition of polysilicon |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
SK5872002(A3) |
申请公布日期 |
2003.06.03 |
| 申请号 |
SK20020000587 |
申请日期 |
2000.08.17 |
| 申请人 |
EQUIPMENT TECHNOLOGIES INC. |
发明人 |
CHANDRA MOHAN;JAFRI IJAZ;GUPTA KEDAR;PRASAD VISHWANATH;TALBOTT JONATHAN |
| 分类号 |
C01B33/02;C01B33/027;C23C16/24;C30B29/06;(IPC1-7):C23C16/24;C01B33/035 |
主分类号 |
C01B33/02 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
