| 发明名称 |
PROCESS AND APPARATUS FOR ETCHING A SEMICONDUCTOR MATERIAL |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
IL122937(A) |
申请公布日期 |
2003.05.29 |
| 申请号 |
IL19980122937 |
申请日期 |
1998.01.14 |
| 申请人 |
TECHNION RESEARCH AND DEVELOPMENT FOUNDATION |
发明人 |
DAVID STAROSVETSKY;MARK KOVLER;JOSEPH YAHALOM;YAEL NEMIROVSKY |
| 分类号 |
C25F3/12;C25F7/00;H01L21/3063;(IPC1-7):H01L21/02;B23H3/00;C23F1/00;C23F3/12 |
主分类号 |
C25F3/12 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
