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发明名称 Methode zur Feststellung der Auswirkungen von Plasmabehandlungen auf Halbleiterscheiben
摘要
申请公布号 DE69627672(D1) 申请公布日期 2003.05.28
申请号 DE19966027672 申请日期 1996.12.16
申请人 STMICROELECTRONICS S.R.L., AGRATE BRIANZA 发明人 GHIO, EMILIO;ALBA, SIMONE;COLOGNESE, ANDREA;MAUGAIN, FRANCOIS;RIVERA, GIOVANNI
分类号 H01L21/66;(IPC1-7):H01L29/00 主分类号 H01L21/66
代理机构 代理人
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