发明名称 | 沟槽深度检测和控制的方法及装置 | ||
摘要 | 揭示了一种用于光学地检测晶片中的沟槽深度的方法。该方法包括:检测一多波长光的强度中的一第一最大值,该多波长光的一部分被一顶部沟槽表面反射而来:检测一多波长光的强度中的一第二最大值,该多波长光的一部分被一底部沟槽表面反射而来。该方法进一步包括确定在该第一最大值与该第二个最大值之间的一最大峰值间距,该沟槽深度对应于该最大峰值间距。该方法提供了一种强健的、节省成本的沟槽深度检测方法。 | ||
申请公布号 | CN1421045A | 申请公布日期 | 2003.05.28 |
申请号 | CN00813644.0 | 申请日期 | 2000.09.27 |
申请人 | 拉姆研究公司 | 发明人 | 兰德尔·S·蒙特 |
分类号 | H01L21/66;G01B11/22 | 主分类号 | H01L21/66 |
代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 李辉 |
主权项 | 1.一种光学地检测一沟槽深度的方法,该方法包括下列操作:检测一多波长光的强度中的一第一最大值,该多波长光的一部分被一顶部沟槽表面反射而来:检测一多波长光的强度中的一第二最大值,该多波长光的一部分被一底部沟槽表面反射而来;以及确定在该第一最大值与该第二个最大值之间的一最大峰值间距,该沟槽深度对应于该最大峰值间距。 | ||
地址 | 美国加利福尼亚州 |