| 发明名称 | 一种只读码掩模及其应用方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种于一光阻层上形成一只读码布植图案的方法，该方法包含有下列步骤：提供一表面覆有一光阻层的芯片；提供一投影透镜设于该芯片正上方；提供一预定波长曝光光源，以产生一偶极光线；以及提供一只读码布植掩模，设于该投影透镜与该曝光光源之间，其中该掩模上包含有多个成不规则排列的只读码开口，以及多个辅助开口穿插设置于该多个成不规则排列的只读码开口之间，以使该多个只读码开口以及该多个辅助开口在一x方向上呈现周期性的图案。 | ||
| 申请公布号 | CN1420525A | 申请公布日期 | 2003.05.28 |
| 申请号 | CN01130309.3 | 申请日期 | 2001.11.20 |
| 申请人 | 旺宏电子股份有限公司 | 发明人 | 张庆裕;吴义镳;洪齐元 |
| 分类号 | H01L21/027;H01L21/82;H01L21/8246;G03F7/00 | 主分类号 | H01L21/027 |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 马莹;邵亚丽 |
| 主权项 | 1.一种于一光阻层上形成一只读码布植图案的方法，该方法包含有下列步骤：提供一表面覆有一光阻层的芯片；提供一投影透镜设于该芯片正上方；提供一预定波长曝光光源，以产生一偶极光线；以及提供一只读码布植掩模，设于该投影透镜与该曝光光源之间，其中该掩模上包含有多个不规则排列的只读码开口，以及多个辅助开口穿插设置于该多个不规则排列的只读码开口之间。 | ||
| 地址 | 台湾省新竹科学工业园区 | ||