| 摘要 |
<p>L'invention concerne un dispositif d'exposition à faisceau d'électrons à haut débit contenu dans un système d'exposition fermé. Ce dispositif comprend un étage; une colonne optique électronique; une chambre à vide; une partie mécanisme de transfert de masque destinée à transférer un masque vers la colonne optique électronique après que le masque a été retiré d'une cassette de masque à l'état de pression atmosphérique et à mettre l'intérieur du masque à l'état de vide; une chambre de préchargement destinée à recevoir une plaquette à partir d'une cassette de plaquette et à distribuer cette plaquette vers ladite cassette; ainsi qu'une chambre de chargement destinée à transférer la plaquette vers l'étage, après l'avoir reçue de la chambre de préchargement à l'état de pression atmosphérique, puis à mettre l'intérieur de celle-ci à l'état de vide et à transférer la plaquette vers ladite chambre de préchargement après l'avoir reçue de l'étage à l'état de vide, et à mettre l'intérieur de ladite plaquette à l'état de pression atmosphérique.</p> |
