发明名称 Einrichtung für die Regelung einer Plasmaimpedanz
摘要 Die Erfindung betrifft eine Einrichtung zum Regeln einer Plasmaimpedanz in einer Vakuumkammer, wobei wenigstens eine Elektrode mit einem Wechselstromgenerator in Verbindung steht. Dieser Wechselstromgenerator ist ein Freischwinger, dessen Frequenz sich auf die Resonanzfrequenz der von ihm beaufschlagten Last einstellt. Diese Last besteht aus festen Schaltelementen und aus einer variablen Plasmaimpedanz. Ändert sich die Plasmaimpedanz, ändert sich mit ihr auch die Resonanzfrequenz. Die Plasmaimpedanz kann somit durch Erfassung der Resonanzfrequenz und durch Vorgabe eines Frequenz-Sollwerts verändert werden, z. B. indem die Spannung, der Strom, die Leistung oder der Gaszufluss in Abhängigkeit von der Differenz zwischen Resonanzfrequenz und Frequenz-Sollwert verändert wird.
申请公布号 DE10154229(A1) 申请公布日期 2003.05.15
申请号 DE20011054229 申请日期 2001.11.07
申请人 APPLIED FILMS GMBH & CO. KG 发明人 WILLMS, THOMAS;BRUCH, JUERGEN
分类号 H05H1/46;B01J3/00;B01J19/08;C23C14/34;H01J37/32;H01J37/34;(IPC1-7):H01J37/32 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人
主权项
地址