| 主权项 |
1.一种由铜熔合物构成之浇注熔液(3)之浇注用之配置,其具有一可围绕水平摆动轴(2)而摆动之熔化炉(1),浇注熔液(3)在保护气体之大气(9)下由熔化炉(1)传送至浇注槽(6,6a,6b)之浇注末端(5)且经由浇注槽(6,6a,6b)之出口(22)而传送至铸模(33),其特征为:浇注槽(6,6a,6b)之至少此浇注末端(5)可由顶罩(7,7a,7b)(其针对大气(A)来密封该浇注熔液(3))所覆盖且配属于熔化炉(1)之浇注管(4,4a)在加入一种密封配置(8)时以可摆动而移动之方式抓握在顶罩(7,7a,7b)中。2.如申请专利范围第1项之配置,其中密封配置(8)包含一设置在浇注管(4)上方之上密封单元(12,12a-12e)及一设置在浇注管(4)下方之下密封单元(13,13b-13e)。3.如申请专利范围第2项之配置,其中密封配置(8)具有至少一配属于浇注管(4)之密封单元(12,12a;13,13a),其包含至少一种圆弧区段。4.如申请专利范围第3项之配置,其中密封单元(12,13)以圆柱区段,中空圆柱区段或球形区段构成,其以密封形式延伸至顶罩(7a)之对等形式之容纳区中或延伸至顶罩7之密封元件(14)。5.如申请专利范围第3项之配置,其中密封单元(12a)以径向条及边缘侧之密封元件(15)构成,密封元件(15)延伸至顶罩(7a)之对等形式之容纳件(16)中。6.如申请专利范围第2至5项中任一项之配置,其中至少一密封单元(12b,13b)以耐热材料所构成之可挠性封装用之密封件所形成。7.如申请专利范围第6项之配置,其中封装用之密封件(12b,13b)固定在一形成顶罩(7,7a)或浇注槽(6)之成份所用之容纳件(17)中。8.如申请专利范围第1或2项之配置,其中至少一密封单元(12c,13c)以耐热材料所构成之可挠垫所形成。9.如申请专利范围第1或2项之配置,其中至少一密封单元(12d,13d)以折棚或折管构成。10.如申请专利范围第1至3项中任一项之配置,其中浇注管(4)包含一配属于熔化炉(1)之第一子件(25)及一配属于顶罩(7,7a,7b)之第二子件(26),各子件(25,26)经由中间密封件(27)而互相耦合。11.如申请专利范围第10项之配置,其中在熔化过程中浇注管(4)之至少一与熔化炉(1)相连之子件(25,26)在末端侧以气密方式密封着。12.如申请专利范围第1项之配置,其中在熔化过程中顶罩(7,7b)由浇注槽(6)解开且其面向浇注槽(6)之开口以气密方式由顶罩封闭件(28,28a)所封闭。13.如申请专利范围第1项之配置,其中熔化炉(1)之上侧区域(29)由圆柱形之炉顶罩(30)所围绕。14.如申请专利范围第13项之配置,其中熔化炉(1)具有一注入浇注管(4a)中之槽形排出口(32),其由炉顶罩(30)所围绕而密封着。15.如申请专利范围第1或12项之配置,其中在浇注槽(6)之出口(22)及铸模(33)之间配置一种铸模外罩(34)。16.如申请专利范围第15项之配置,其中出口(22)可由塞子(23)所封闭,此塞子贯通顶罩(7)而达成密封作用。17.如申请专利范围第1或12项之配置,其中顶罩(7b)只覆盖该浇注槽(6)之浇注末端(5),该顶罩(7b)之远离熔化炉(1)之侧面(20)位于一横条(21)上,横条(21)由浇注槽(6)之上边缘(35)凸出直至浇注槽(6)中之浇注熔液之高度位准(36)之下方。18.如申请专利范围第15项之配置,其中顶罩(7b)只覆盖该浇注槽(6)之浇注末端(5),让顶罩(7b)之远离熔化炉(1)之侧面(20)位于一横条(21)上,横条(21)由浇注槽(6)之上边缘(35)凸出直至浇注槽(6)中之浇注熔液之高度位准(36)之下方。图式简单说明:第1.2图在熔化过程及浇注期间浇注熔液浇注用之装置。第3至5图具有密封单元之密封配置之实施形式,密封单元在熔化炉摆动时描绘出一种围绕该摆动轴之圆弧。第6至9图密封单元(封装用密封件,可挠垫,折棚)之另一实施形式。第10至14图第3至9图中所示之密封单元之各种不同之组合。第15和16图具有较短或较长之顶罩之装置,顶罩定位在浇注槽上,浇注管由顶罩所隔开且末端侧被封闭。第17.18图具有较短或较长之顶罩之装置,其中浇注管之配属于熔化炉之子件之末端侧被封闭。第19.20图具有较长或较短之顶罩之装置,其面向浇注槽之开口被封闭。第21.22图多个装置,其中熔化炉之上侧区域由炉之顶罩所围绕。第23.24图具有较长或较短之顶罩之装置,在出口和铸模之间配置铸模外罩。第25.26.27图具有不同组态之浇注槽之装置。 |
