| 发明名称 |
Method and apparatus for ionized physical vapor deposition |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2359189(B) |
申请公布日期 |
2003.05.07 |
| 申请号 |
GB20010010556 |
申请日期 |
1999.11.01 |
| 申请人 |
* TOKYO ELECTRON LIMITED |
发明人 |
JASON * SMOLANOFF;JIM * ZIBRIDA;BRUCE * GITTLEMAN;THOMAS J * LICATA |
| 分类号 |
C23C14/34;C23C14/35;H01J37/32;H01J37/34;H01L21/203;H01L21/285;(IPC1-7):H01J37/32;C23C14/32 |
主分类号 |
C23C14/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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