| 发明名称 |
PROCEDIMENTO PER LA FABBRICAZIONE DI UNA FETTA SEMICONDUTTRICE INTEGRANTE DISPOSITIVI ELETTRONICI E UNA STRUTTURA PER IL DISACCOPPIAMENTO EL |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
ITTO20011038(A1) |
申请公布日期 |
2003.04.30 |
| 申请号 |
IT2001TO01038 |
申请日期 |
2001.10.30 |
| 申请人 |
STMICROELECTRONICS S.R.L. |
发明人 |
VIGNA BENEDETTO;VISALLI GIUSEPPE;COMBI CHANTAL;FIORITO MATTEO;MOTTURA MARTA |
| 分类号 |
H01L21/762;H01L21/764;H01L27/08 |
主分类号 |
H01L21/762 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
