发明名称 去除涂鸦之方法
摘要 本发明之课题系为表面层上残留的涂鸦藉由一般擦拭等作业予以去除时,擦拭作业不易且会损伤表面层。本发明之特征系于构造物之基材表面上经由底层涂料层,于其上涂覆具拨水性之溶剂缩合型矽树脂涂料以形成难黏着性之表面层,且于该表面层上涂鸦后,于其上涂覆可剥离性涂料以形成可剥离层,于可剥离层硬化后藉由自表面层剥离可剥离层,可自构造物表面去除涂鸦。
申请公布号 TW528784 申请公布日期 2003.04.21
申请号 TW087118037 申请日期 1998.10.30
申请人 休邦得建设股份有限公司 发明人 上条达幸;宫里胜之;野英雄
分类号 C09D10/00 主分类号 C09D10/00
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项 l.一种去除涂鸦之方法,其特征为在构造物之基材表面上经由底层涂料层,在其上涂覆具拨水性之溶剂缩合型矽树脂涂料以形成可剥离层,且于可剥离层硬化后,藉由自表面层剥离可剥离层,自表面层之表面去除涂鸦,其中具拨水性之溶剂缩合型矽树脂涂料系在溶剂缩合型矽树脂涂料中添加氟矽烷等之拨水剂而得者,且使用于该涂料中之溶剂缩合型矽树脂,系使末端具矽烷醇基之甲基卤化二烯聚矽氧烷、甲基甲氧基矽烷、或二甲基聚矽氧烷等在触媒存在下缩合而得,且可剥离性涂料硬化后之物性系拉伸率为100%以上(20℃),拉伸强度为l00kg/cm2以上(20℃)。图式简单说明:第1图系为在构造物之基材表面上经由底层涂料层,于其上形成表面层之状态的截面图。第2图系为于经涂鸦的表面层上形成可剥离层的状态之截面图。第3图系为藉由自表面层剥离可剥离层来去除涂鸦的状态之截面图。
地址 日本