发明名称 化学汽相淀积法制膜技术及制膜设备
摘要 本发明是一种包括以下两道工序的再生利用有机金属化合物的CVD制膜工艺技术:①从以往被废弃的排气中回收有机金属化合物的回收工序;②精制回收得到的有机金属化合物、清除CVD法制膜工序生成的副产物的精制工序。回收方法可采用以下各法中的任何一种:①将冷却排气所得物质作为回收分回收的方法;②将排气和溶剂接触,使有机金属化合物溶于溶剂然后加以回收的方法;③将排气和吸附剂接触,吸附有机金属化合物后加以回收的方法。精制方法因回收方法或回收分性状的不同而异,可从蒸馏回收法、升华回收法、加热吸附剂解吸有机金属化合物法中任选一种。在这些CVD薄膜工艺中,通过在回收工序之前,增加排气除氧工序和排气改质处理工序,可以较高的收率回收、精制有机金属化合物。
申请公布号 CN1410589A 申请公布日期 2003.04.16
申请号 CN01141183.X 申请日期 2001.09.28
申请人 田中贵金属工业株式会社 发明人 来田勝继;斋藤昌幸
分类号 C23C16/00;B01D53/00 主分类号 C23C16/00
代理机构 上海专利商标事务所 代理人 章鸣玉
主权项 1、CVD制膜工艺,其特征在于包括以下四道工序:①将有机金属化合物加热、气化以制得源气的气化工序;②将上述源气导入基板,使之在基板表面反应,形成金属或金属氧化物薄膜的制膜工序;③通过冷却含有上述制膜工序生成的反应产物和未反应源气之排气,使上述未反应源气凝结或凝固下来,得到含有液态或固态有机金属化合物的回收分之回收工序;④分离、精制上述回收分中有机金属化合物的精制工序。
地址 日本东京