发明名称 液晶显示装置及液晶显示装置之制造方法
摘要 本发明有关于液晶显示装置及其制造方法。本发明之液晶显示装置,乃具备有,具有第1基板、及形成于上述第1基板上之转换元件,及覆罩上述转换元件地被形成之层间绝缘膜,形成于上述层间绝缘膜上,介着形成于上述层间绝缘膜之接触孔而连接于上述转换元件之画素电极,及覆罩上述画素电极地被形成之指向膜,及形成于上述指向膜之下面之间隔件,而成之阵列基板。在于对应于上述接触孔之领域内之画素电极与指向膜之层间,配置有由与间隔件同一材料所形成之平坦化层者。
申请公布号 TW527496 申请公布日期 2003.04.11
申请号 TW090110034 申请日期 2001.04.26
申请人 东芝股份有限公司 发明人 吉田典弘
分类号 G02F1/13 主分类号 G02F1/13
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种液晶显示装置,主要乃具备有,具有第1基板、及形成于上述第1基板上之转换元件,及覆罩上述转换元件地被形成之层间绝缘膜,形成于上述层间绝缘膜上,介着形成于上述层间绝缘膜之接触孔而连接于上述转换元件之画素电极,及覆罩上述画素电极地被形成之指向膜,及形成于上述指向膜之下面之间隔件,而成之阵列基板,及面向配置于上述阵列基板之面向基板,及配置于上述阵列基板与上述面向基板之间之液晶组成物而成之液晶显示装置中。其特征为:在于对应于上述接触孔之领域内之上述画素电极与上述指向膜之层间,配置有由与上述间隔件同一材料所形成之平坦化层者。2.如申请专利范围第1项所述之液晶显示装置,其中上述平坦化层系由树脂所形成者。3.如申请专利范围第2项所述之液晶显示装置,其中上述平坦化层系黑色者。4.如申请专利范围第1项所述之液晶显示装置,其中上述层间绝缘膜系彩色滤光片者。5.一种液晶显示装置之制造方法,主要系在于第1基板与第2基板之间挟持液晶层之液晶显示装置之制造方法中,其特征为,具有下述之制程:在于上述第1基板上,形成转换元件之制程,及覆罩上述转换元件而对应于上述转换元件之一部份地形成具有接触孔之层间绝缘膜之制程,及在于上述层间绝缘膜上,形成介着上述接触孔连接于上述转换元件之画素电极之制程,及于上述层间绝缘膜上成上述画素电极上形成间隔件,同时在于对应于接触孔之领域内形成平坦化层之制程,及形成上述平坦化层之后,形成指向膜之制程,及将上述指向膜予以摩擦处理之制程者。图式简单说明:第1图系概略的表示本发明之一实施形态之液晶显示装置之构造之断面图。第2图系概略的表示适用于第1图所示之液晶显示装置之矩阵阵列基板之构造之平面图。第3图系概略的表示第1图所示之液晶显示装置之一制造过程之断面图。第4图系概略的表示第1图所示之液晶显示装置之一制造过程之断面图。第5图系概略的表示第1图所示之液晶显示装置之一制造过程之断面图。第6图系概略的表示第1图所示之液晶显示装置之一制造过程之断面图。第7图系表示本发明之一实施形态之液晶显示装置之一制造过程中之绝缘层之膜厚与显像像之浸渍时间之关系之断面图。
地址 日本