| 主权项 |
1.一种对一或多行进速度介于3000m/min及10000m/min间之纱线施加表面处理液体之方法,包含步骤为:a)令该纱线通入一表面处理施加器装置,同时实质阻隔随纱线运动空气周边层进入该表面处理施加器装置;b)令该纱线于压力下接触一表面处理液体;c)实质令过量表面处理脱离该纱线;及d)令该纱线通出该施加器装置。2.如申请专利范围第1项之方法,其中阻隔75%随各纱线带动空气周边层剖面积进入该施加器装置。3.如申请专利范围第1项之方法,其中该纱线速度系介于5000m/min及10000m/min之间。4.如申请专利范围第1项之方法,其中该纱线速度系介于8000m/min及10000m/min之间。5.如申请专利范围第1项之方法,其中该表面处理液体在10psi(68.9kPa)压力下接触纱线。6.如申请专利范围第1项之方法,其中该表面处理液体在20psi(138kPa)压力下接触纱线。7.如申请专利范围第1项之方法,其中该表面处理液体在40psi(276kPa)压力下接触纱线。8.如申请专利范围第1项之方法,其中施加到纱线之表面处理液体在0.2重量%到5重量%,变化系数系介于5%及10%之间。9.如申请专利范围第1项之方法,其中施加到纱线之表面处理液体在0.4重量%到4重量%,变化系数系介于5%及10%之间。10.如申请专利范围第1项之方法,其中施加到纱线之表面处理液体在0.5重量%到2重量%,变化系数系介于5%及10%之间。11.一种施加表面处理液体于行进速度介于3000m/min及10000m/min间之纱线之方法,包含步骤为:a)令一或多行进纱线各别通过外壁上限制纱线入口而进入一施加器装置,并进入第一室,该限制开口实质阻隔随各纱线带入之空气周边层;b)令各行进纱线自该第一室透过一内壁元件上一后限制开口进入另一其他室;c)主动自一外部源供应表面处理液体到该各纱线行过之各室之一;d)令各纱线于压力下接触该表面处理液体;e)令过量表面处理液体于该室中实质脱离各纱线;f)排放该过量表面处理液体到外部贮槽;及g)令各纱线透过在一外壁元件上供各纱线之出口,自该施加器装置最后一室通出。12.如申请专利范围第11项之方法,其中75%随各纱线带动空气周边层剖面积,由该限制纱线入口阻隔。13.如申请专利范围第11项之方法,其中该纱线速度系介于5000m/min及10000m/min之间。14.如申请专利范围第11项之方法,其中该纱线速度系介于8000m/min及10000m/min之间。15.如申请专利范围第11项之方法,其中该表面处理液体在10psi(68.9kPa)压力下接触该纱线。16.如申请专利范围第11项之方法,其中该表面处理液体在20psi(138kPa)压力下接触该纱线。17.如申请专利范围第11项之方法,其中该表面处理液体在40psi(276kPa)压力下接触该纱线。18.如申请专利范围第11项之方法,其中施加到纱线之表面处理液体在0.2重量%到5重量%,变化系数系介于5%及10%之间。19.如申请专利范围第11项之方法,其中施加到纱线之表面处理液体在0.4重量%到4重量%,变化系数系介于5%及10%之间。20.如申请专利范围第11项之方法,其中施加到纱线之表面处理液体在0.5重量%到2重量%,变化系数系介于5%及10%之间。21.如申请专利范围第11项之方法,其中该表面处理液体透过该室底部进入。22.一种对一或多行进速度介于3000m/min及10000m/min间之纱线施加表面处理液体之方法,包含步骤为:a)令一或多行进纱线通入一表面处理施加器装置;b)实质阻隔并脱除随各纱线行进之空气周边层,并令其排放到该表面处理施加器装置外界;c)令该纱线于压力下接触一表面处理液体;d)实质自该纱线脱除过量表面处理;及e)令该纱线通出该施加器装置。23.如申请专利范围第22项之方法,其中75%随各纱线带入空气周边层剖面积于施加器装置阻隔并排出。24.如申请专利范围第22项之方法,其中该纱线速度系介于5000m/min及10000m/min之间。25.如申请专利范围第22项之方法,其中该纱线速度系介于8000m/min及10000m/min之间。26.如申请专利范围第22项之方法,其中该表面处理液体在10psi(68.9kPa)压力下接触该纱线。27.如申请专利范围第22项之方法,其中该表面处理液体在20psi(138kPa)压力下接触该纱线。28.如申请专利范围第22项之方法,其中该表面处理液体在40psi(276kPa)压力下接触该纱线。29.如申请专利范围第22项之方法,其中供给纱线之表面处理液体在0.2重量%到5重量%,变化系数系介于5%及10%之间。30.如申请专利范围第22项之方法,其中供给纱线之表面处理液体在0.4重量%到4重量%,变化系数系介于5%及10%之间。31.如申请专利范围第22项之方法,其中供给纱线之表面处理液体在0.5重量%到2重量%,变化系数系介于5%及10%之间。32.一种对行进速度介于3000m/min及10000m/min间之纱线施加表面处理液体之方法,包含步骤为:a)令一或多行进纱线透过一外壁元件上各纱线开口,进入一施加器装置;b)令各行进纱线通过该施加器装置内部限制通道;c)排出随各行进纱线带来之空气周边层到施加器装置外界;d)令一或多压力下由外界源供给之表面处理液体喷射于施加器装置内撞击各行进纱线;e)令各行进纱线通过由施加器装置内部一或多壁隔出之二或多连续室;f)自该室排出过量表面处理液体到一外界贮槽;及g)令各纱线自该施加器装置最后一室通出。33.如申请专利范围第32项之方法,其中75%随各纱线带入空气周边层剖面积由限制通道阻隔于该施加器装置之内。34.如申请专利范围第32项之方法,其中排放空气周边层,利用如真空泵或吸收器方式产生外部真空,协助抽吸。35.如申请专利范围第32项之方法,其中该纱线速度系介于5000m/min及10000m/min之间。36.如申请专利范围第32项之方法,其中该纱线速度系介于8000m/min及10000m/min之间。37.如申请专利范围第32项之方法,其中该表面处理液体于10psi(68.9kPa)压力下接触该纱线。38.如申请专利范围第32项之方法,其中该表面处理液体于20psi(138kPa)压力下接触该纱线。39.如申请专利范围第32项之方法,其中该表面处理液体于40psi(276kPa)压力下接触该纱线。40.如申请专利范围第32项之方法,其中施加纱线表面处理液体在0.2重量%到6重量%,变化系数系介于5%及10%之间。41.如申请专利范围第32项之方法,其中施加纱线表面处理液体在0.4重量%到5重量%,变化系数系介于5%及10%之间。42.如申请专利范围第32项之方法,其中施加纱线表面处理液体在0.5重量%到2重量%,变化系数系介于5%及10%之间。43.一种纱线表面处理方法,包含步骤为:于抽拉盘上加热导轮间位置,施加表面处理液体于一或多行进速度介于3000m/min及10000m/min间之纱线;于该轮上通道乾燥该纱线;于一卷绕器收集乾燥抽拉纱线。44.一种对一或多高速行进纱线施加表面处理液体之施加器装置,其包含:a)一上部及一搭配上部之底部;b)各该上部及底部具有前表面,后表面,上表面,底表面,及二侧表面;c)该底部于其前表面有各纱线之入口及后表面供各纱线之出口;d)该纱线入口尺寸可实质阻隔一空气周边层;e)该底部具一或多内壁将底部分隔为二或多连续室;f)各该底部内壁具供各纱线之限制纱线通道,连接前及后室;g)至少该底部该室之一与一外界表面处理液体供源相通;h)至少该底部该室之一与一外界排放相通;i)该上部具有一或多内壁将上部分隔为连续室,其数目及位置与该底部室相搭配;j)至少该上部该室之一与一外界表面处理液体供源相通;及k)令该上部该底表面与该底部该上表面保持在搭配位置之方式。45.如申请专利范围第44项之施加器装置,其中该上部及该底部于其侧表面之一以铰链方式连接,而其他侧表面以快速接头方式连接。46.如申请专利范围第44项之施加器装置,其中该纱线入口及该纱线通道的限制为使尺寸介于有效纱线直径之1至10倍之间。47.如申请专利范围第44项之施加器装置,其中该纱线入口及该纱线通道的限制为使尺寸介于有效纱线直径之1至6倍之间。48.如申请专利范围第44项之施加器装置,其中该纱线入口尺寸限制为可阻隔75%随各纱线所带之空气周边层剖面积。49.如申请专利范围第44项之施加器装置,其中该纱线入口及该纱线通道尺寸之剖面积为0.0335平方公分。50.如申请专利范围第44项之施加器装置,其中在上及底部间提供封合方式以避免由搭配表面间对外界泄漏。51.一种对高速行进纱线施加表面处理液体之施加器装置,其包含:a)一上部及一封合及搭配底部;b)各该上部及该底部具有前表面,后表面,上表面,底表面,及二侧表面;c)该上部于底表面具有供各纱线沟道,由上部前表面延伸到上部后表面距离中间位置;d)该底部于其上表面具有供各纱线沟道,由底部前表面延伸到下部后表面距离中间位置;e)该底部上表面该沟道与该上部搭配底表面沟道对正;f)纱线入口由该上及底部对正沟道与其各前表面交界处形成;g)该上部之空气周边层转向管于各该沟道与底部上表面间交通;h)该底部之空气周边层转向管于各该沟道与上部底表面间交通;i)上部及底部各该空气周边层转向管与其对应沟道,与其各别上及底部前表面附近交会,与对应沟道形成10到50之锐角,该锐角向外向后开放;j)各沟道尺寸内第一限制,该第一限制置于空气周边层转向管与沟道交会后方附近;k)一或多液体供应管连通各该沟道及外界加压之表面处理液体源,该液体供应管位于该第一限制后方,各沟道尺寸内;l)各液体供应管在其与对应沟道交会端点受限制形成一喷射孔;m)各液体供应管在其与对应沟道交会端点于该沟道形成第二及其后之限制;n)该底部在其后方具最多后方液体供应管,以一或多内壁界定二或多室;o)该室与一外界排放相通;p)底部后表面上有各纱线之出口;及q)令上部底表面与下部底表面于搭配位置固定一处之方式。52.如申请专利范围第51项之施加器装置,其中该上部及该下部于其侧面之一以铰链相连,而于其他侧表面以快速接头相接。53.如申请专利范围第51项之施加器装置,其中沟道第一限制尺寸系可阻隔随各纱线所带空气周边层剖面积75%。54.如申请专利范围第51项之施加器装置,其中沟道之第二及其后限制剖面积不大于该第一限制剖面积约5倍。55.如申请专利范围第51项之施加器装置,其中于上部及底部间提供封合方式以避免于其搭配表面产生泄漏。56.一种制造外层表面处理纱线产物之方法,该方法包含之步骤为:a)于加热轮间位置对一纱线主动施加外层表面处理,纱线速度系介于3000m/min及10000m/min之间,浓度在0.2重量%到约5重量%,浓度变化系数系介于5%及10%之间;及b)于该加热轮上通道乾燥该纱线。图式简单说明:图1为本发明称为“埋浸施加器"之第一表面处理施加器之剖面示意图。图2所示为本发明称为“穴状施加器"之第二表面处理施加器剖面示意图。图3所示为既往技艺在抽拉轮后及卷绕器前之抽拉盘及既往技艺施加器。图4所示为最终一对抽拉轮前之具新型上表面处理施加器之抽拉盘。图5所示为与图4相同之抽拉盘,具新型上表面处理施加器及相邻抽拉轮封密于一排气盒中。 |
