| 发明名称 | 多晶硅膜的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种多晶硅膜的制造方法，包括步骤：通过光照设置在衬底上的硅膜形成多晶硅膜，和选择衬底样品，所述衬底样品具有500nm或更大的面内平均粒径。根据本发明，能够稳定制造高性能的多晶硅TFT液晶显示器。 | ||
| 申请公布号 | CN1409378A | 申请公布日期 | 2003.04.09 |
| 申请号 | CN02106426.1 | 申请日期 | 2002.02.28 |
| 申请人 | 株式会社日立制作所 | 发明人 | 武田一男;斋藤雅和;高嵜幸男;阿部广伸;大仓理;木村嘉伸;芝健夫 |
| 分类号 | H01L21/20 | 主分类号 | H01L21/20 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王永刚 |
| 主权项 | 1.一种多晶硅膜的制造方法，包括步骤：通过光照设置在衬底上的硅膜形成多晶硅膜，和选择衬底样品，所述衬底样品具有500nm或更大的面内平均粒径。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||