发明名称 | 制作超微细图形的装置 | ||
摘要 | 本发明是一种用原子制作任意超微细图形的装置,由原子束发生器、真空室、通电线圈、激光束、计算全息编码片和基片等构成。它利用磁场、激光场使准直原子束冷却、减速,形成准单色德布罗意波;使准单色德布罗意波通过计算全息编码片孔产生衍射和干涉,在工件台上直接堆积制作出任意形状的超微细图形。该装置克服了现有技术的缺陷,可广泛应用于制作包含纳米图形的超微细三维图形、纳米材料和纳米器件等的研究和开发。 | ||
申请公布号 | CN1406860A | 申请公布日期 | 2003.04.02 |
申请号 | CN01108757.9 | 申请日期 | 2001.08.20 |
申请人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明人 | 石建平;陈旭南;罗先刚;高洪涛;陈献忠;李展 |
分类号 | B82B3/00;H01L21/00 | 主分类号 | B82B3/00 |
代理机构 | 成都信博专利代理有限责任公司 | 代理人 | 张一红;王庆理 |
主权项 | 1、一种制作超微细图形的装置,包括原子束发生器(1)、真空室(9)、基片(14)和工件台(15),其特征在于:真空室(9)内有通电线圈(4)、第一激光束(5)和第二激光束(7)、计算全息编码片(10);原子束流(3)射入真空工作室(9),通过通电线圈(4)产生的磁场、第一激光束(5)和第二激光束(7)交叉形成的磁光陷阱区(6)、以及磁光陷阱区(6)下面的计算全息编码片(10),在工件台(15)的基片(14)上形成任意超微细图形(13)。 | ||
地址 | 610209四川省成都市双流350信箱 |