| 主权项 |
1.一种耐蚀性元件,其对于卤素系腐蚀性气体之电浆有耐蚀性,其包括本体,及在本体之表面上形成的耐蚀层,该耐蚀层含有择自稀土族元素和硷土族元素所组成之族群中之一种以上之元素的氟化物,且该氟化物为最上层;其中该本体为氮化矽陶瓷、碳化矽陶瓷、氧化铝、碳化硼、氧化矽或氮化铝。2.如申请专利范围第1项所述之耐蚀性元件,其中该耐蚀层为该氟化物膜。3.如申请专利范围第1或第2项所述之耐蚀性元件,其中该氟化物为氟化镁。4.如申请专利范围第1或第2项所述之耐蚀性元件,其中该本体为择自金属矽、耐热性合金、氮化矽质陶瓷、碳化矽质陶瓷、氧化铝、碳化硼、以及氧化矽所组成之族群中之材质。5.如申请专利范围第1或第2项所述之耐蚀性元件,其中该本体为氮化铝质陶瓷。6.如申请专利范围第5项所述之耐蚀性元件,其中在该耐蚀层中,稀土族元素和硷土族元素之元素数的总和占铝、稀土族元素、和硷土族元素之元素数的总和之20%以上、100%以下。7.如申请专利范围第1或第2项所述之耐蚀性元件,其中稀土族元素和硷土族元素所组成之族群中之一种之上该元素具有0.9以上之离子半径。8.如申请专利范围第1或第2项所述之耐蚀性元件,其中该耐蚀层之厚度为0.2m以上,10m以下。9.如申请专利范围第8项所述之耐蚀性元件,其中该耐蚀层是藉由含有稀土族元素和硷土族元素所组成之族群中之一种以上之元素之氟化物的粒状物所形成的。图式简单说明:第1图显示实施例1之耐蚀性元件中,耐蚀性元件之表面之耐蚀层之反射电子像的图面代用照片。第2图显示实施例1之耐蚀性元件中,耐蚀性元件之表面及在其下之氮化铝粒子之反射电子像的图面代用照片。第3图显示比较例1之耐蚀性元件中,耐蚀性元件之表面之氮化铝粒子之反射电子像的图面代用照片。第4图显示比较例1之耐蚀性元件中,耐蚀性元件之表面及在其下之氮化铝粒子之反射电子像的图面代用照片。第5图显示实施例9之耐蚀性元件中,曝露在电浆之前耐蚀层之剖面之反射电子像的图面代用照片。第6图显示实施例9之耐蚀性元件中,曝露在电浆之后耐蚀层之剖面之反射电子像的图面代用照片。 |
