| 摘要 |
<p>Ein Verfahren zum Ausrichten einer Vielzahl von Substraten (3), die auf einem Werkstückträger (8) gehaltert sind, auf eine Belichtungsmaske (5) zur Ausführung eines Photolithografieprozesses hat die Schritte : Ausrichten und Fixieren einer Belichtungsmaske (5) auf ein Justageblech (12), wobei das Justageblech (12) passgenaue Durchführungsbohrungen (13) jeweils zur Aufnahme eines Substrats (3) pro Durchführungsbohrung (13) hat, und Einschieben der Substrate (3), die auf dem Werkstückträger (8) gehaltert sind, in die Durchführungsbohrungen (13) des Justageblechs (12).</p> |
