| 摘要 |
<p>Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Erzeugen einer fortlaufenden Leiterbahnstruktur aus einem hochtemperatur-supraleitendem Werkstoff auf einem Träger mittels lithographischer Strukturierung oder durch ein physikalisches Ätz-Verfahren.Um mit einem solchen Verfahren eine relativ lange fortlaufende Leiterbahnstruktur auf einfache Weise großtechnisch erzeugen zu können, wird erfindungsgemäß zum Erzeugen einer fortlaufenden Leiterbahnstruktur auf einem bandförmigen Träger mittels einer im Vergleich zu seiner Länge kurzen Leiterbahnstruktur-Erzeugungseinrichtung mit einem kontinuierlichen Abzug des bandförmigen Trägers von einer Bandvorratseinrichtung gearbeitet, indem der bandförmige Träger (3) der Leiterbahnstruktur-Erzeugungseinrichtung (5) von der Bandvorratseinrichtung (1) über einen Band-Puffer (4) zugeführt wird.</p> |
