发明名称 Verfahren zur Herstellung einer Grabenstrukturkondensatoreinrichtung
摘要 Um Grabenkondensatoren (40) mit gleichbleibender oder gesteigerter Kapazität gewährleisten zu können, ist es vorgesehen, Materialien für einen zweiten und gegebenenfalls einen ersten Elektrodenbereich (48, 44) aus einem metallischen Material, einem Metallnitrid oder dergleichen vorzusehen und/oder einen Dielektrikumsbereich (46) mit einem Material mit gesteigerter Dielektrizitätskonstante auszubilden. Ein Isolationsbereich (50) wird im oberen Wandbereich (32c) des jeweiligen Grabens (32) nach dem Ausbilden des ersten Elektrodenbereichs (44) oder des zweiten Elektrodenbereichs (48) durch selektives und lokales Oxidieren ausgebildet.
申请公布号 DE10142580(A1) 申请公布日期 2003.03.27
申请号 DE20011042580 申请日期 2001.08.31
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 SEIDL, HARALD;GUTSCHE, MARTIN;HECHT, THOMAS;LEONHARDT, MATTHIAS;SCHROEDER, UWE
分类号 H01L21/8242;(IPC1-7):H01L21/824 主分类号 H01L21/8242
代理机构 代理人
主权项
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