发明名称 |
Verfahren zur Herstellung einer Grabenstrukturkondensatoreinrichtung |
摘要 |
Um Grabenkondensatoren (40) mit gleichbleibender oder gesteigerter Kapazität gewährleisten zu können, ist es vorgesehen, Materialien für einen zweiten und gegebenenfalls einen ersten Elektrodenbereich (48, 44) aus einem metallischen Material, einem Metallnitrid oder dergleichen vorzusehen und/oder einen Dielektrikumsbereich (46) mit einem Material mit gesteigerter Dielektrizitätskonstante auszubilden. Ein Isolationsbereich (50) wird im oberen Wandbereich (32c) des jeweiligen Grabens (32) nach dem Ausbilden des ersten Elektrodenbereichs (44) oder des zweiten Elektrodenbereichs (48) durch selektives und lokales Oxidieren ausgebildet.
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申请公布号 |
DE10142580(A1) |
申请公布日期 |
2003.03.27 |
申请号 |
DE20011042580 |
申请日期 |
2001.08.31 |
申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
SEIDL, HARALD;GUTSCHE, MARTIN;HECHT, THOMAS;LEONHARDT, MATTHIAS;SCHROEDER, UWE |
分类号 |
H01L21/8242;(IPC1-7):H01L21/824 |
主分类号 |
H01L21/8242 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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