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发明名称
METHOD AND APPARATUS FOR FORMING A SILICON WAFER WITH A DENUDED ZONE
摘要
申请公布号
EP1295325(A1)
申请公布日期
2003.03.26
申请号
EP20010937362
申请日期
2001.05.14
申请人
MEMC ELECTRONIC MATERIALS, INC.
发明人
YANG, CHARLES CHIUN-CHIEH
分类号
H01L21/26;H01L21/322;(IPC1-7):H01L21/322
主分类号
H01L21/26
代理机构
代理人
主权项
地址
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