具有脂环及氧杂丙环构造之新颖酯化合物及其制造方法

摘要

本发明系揭示一种下记式(1)所示之酯化合物。(式中，R1为氢原子或甲基；R2为碳数4至20之三级烷基，k为0或1)使用本发明之酯化合物聚合所得之聚合物所制得之光阻材料，可感应高能量线，且具有优良之感度、解像性、耐蚀刻性等，故极适用于电子线或远紫外线之微细加工。特别是对ArF等离子雷射、KrF等离子雷射等曝光波长之吸收较少，且具有优良之基板密着性，所以可形成微细且对基板为垂直之图型，故极适合作为超LSI制造用之微细图型成形材料。

主权项

1.一种下记式(1)所示酯化合物;(式中,R1为氢原子或甲基;R2为碳数4至20之三级烷基,k为0或1)。2.如申请专利范围第1项之酯化合物,其系为下记式(2)或(3)所示者;(式中,R1为氢原子或甲基;R3.R4.R5.R6各自独立为碳数1至15之直链状、支链状或环状烷基;Z为碳数4至15之2价烃基,且可与键结于两端之碳原子共同形成环)。3.一种如申请专利范围第1项之酯化合物的制造方法,其特征为,于硷存在下,使下记式(4)所示羰基化合物与下记式(5)所示卤化乙酸酯化合物之达尔曾(Darzen)反应而制得下记式(1)所示化合物之方法;(式中,R1.R2.k具有与上记相同之内容;X为氯原子或溴原子)。