DEVICE FOR COATING SUBSTRATES WITH A CURVED SURFACE BY PULSED MAGNETRON SPUTTERING

摘要

Die Erfindung betrifft eine Einrichtung zum Beschichten von Substraten (3) mit gekrümmter Oberfläche mittels Pulsmagnetron-Zerstäuben, enthaltend in einer evakuierbaren Beschichtungskammer mindestens ein Paar Magnetronquellen (1; 2) und Substrathalterungen, durch die Substrate (3) während der Beschichtung relativ zu den Magnetronquellen linear bewegt werden können, wobei die Magnetronquellen (1; 2) rohrförmige rotierende Targets besitzen, deren Verhältnis von Länge zu Durchmesser der Targets mindestens 2:1 beträgt, die Magnetronquellen (1; 2) längs zur Transportrichtung der Substrate (3) angeordnet sind, die Pollinien der magnetischen Mittelpole der Magnetronquellen auf den zugehörigen Targetoberflächen einen Abstand (4) zueinander haben, der mindestens der Substratausdehnung quer zur Transportrichtung entspricht, der kürzeste Abstand (5; 6) jedes Targets zur Oberfläche der Substrate (3) ebenfalls mindestens der Substratausdehnung quer zur Transportrichtung entspricht und die Normalen auf den Targets im Bereich der mittleren Pollinien zumindest zeitweise jeweils etwa auf den nächstgelegenen Substratrand ausgerichtet sind.