发明名称 图案形成方法、装置及半导体器件、电路、显示体模件和发光元件
摘要 图案材料供给部(300),具备有使液态图案材料(312)成为雾状微粒子进行喷雾的莲喷头(310)。在莲喷头(310)的下方,设有配置工件(20)的处理台(318)。在工件(20)的表面具有设有图案形成用开口进行了疏水处理的掩膜。工件(20),通过处理台(318)由直流电源(328)外加电压,利用静电引力吸引液态图案材料(312)的微粒子。处理台(318),通过旋转,使附着在掩膜表面的液态图案材料填充到设在掩膜上的图案形成用开口部,同时能由内置的加热器(326)加热固化液态图案材料。
申请公布号 CN1404624A 申请公布日期 2003.03.19
申请号 CN01805391.2 申请日期 2001.12.21
申请人 精工爱普生株式会社 发明人 森义明;宫川拓也;高木宪一;足助慎太郎;佐藤充
分类号 H01L21/306 主分类号 H01L21/306
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 马铁良;叶恺东
主权项 1.一种图案形成方法,其特征在于:在工件表面形成设有图案形成用开口部的掩膜,之后向上述掩膜的图案形成用开口部供给液态图案材料,并使之固化。
地址 日本东京都