发明名称 稀土钪钨基高电流密度电子发射体材料及其制备方法
摘要 一种稀土钪钨基高电流密度电子发射体材料及其制备方法,属于稀土难熔金属阴极材料技术领域。本发明的材料的特征在于:它含有氧化钪、铼和钨,其中氧化钪占该电子发射体材料重量百分比为1-10%,铼占0-5%,其余为钨。本发明提供的制备方法特征在于,它包括以下步骤:在蓝钨中,以硝酸钪水溶液形式加入1-10%的氧化钪,同时以铼酸铵水溶液的形式加入0-5%的铼,在氢气气氛中,500-650℃下还原0.5-1.5小时,800-1000℃下还原保温1-3小时,得到掺杂氧化钪的钨粉;将上述钨粉采用常规的粉末冶金方法制备烧结体;浸渍铝酸盐,超声波清洗和退火后,制成电子发射体材料。本发明的电子发射体材料发射性能均匀,提高了耐高温、抗离子轰击能力,而且本发明的制备方法工艺重复性好。
申请公布号 CN1402291A 申请公布日期 2003.03.12
申请号 CN02131345.8 申请日期 2002.09.29
申请人 北京工业大学 发明人 王金淑;周美玲;王亦曼;陶斯武
分类号 H01J1/14;H01J1/30 主分类号 H01J1/14
代理机构 北京工大思海专利代理有限责任公司 代理人 张慧
主权项 1、一种稀土钪钨基高电流密度电子发射体材料,其特征在于:它含有氧化钪、铼和钨,其中氧化钪占该电子发射体材料重量百分比为1-10%,铼占0-5%,其余为钨。
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