Verfahren zur Herstellung einer selbstjustierenden Maske

摘要

Es wird ein Verfahren zur selektiven Maskierung einer Struktur mit einer kleinen Strukturoberfläche gegenüber einer Struktur mit einer großen Strukturoberfläche beschrieben. Dazu werden die Strukturen mit einer Abdeckschicht aufgefüllt, wobei sich über der ersten Struktur, die die größere Strukturoberfläche aufweist, eine größere Dicke der Abdeckschicht ausbildet als über der zweiten Struktur 2. Anschließend wird die Abdeckschicht mit einem homogenen Abtragungsverfahren abgetragen, so dass als erstes die Strukturoberfläche der zweiten Struktur freigelegt wird. Damit ist ein einfaches selbstjustierendes Verfahren zum Herstellen einer Maske zur Freilegung der zweiten Struktur gegeben.