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发明名称 Procédé pour l'application épitactique de minces couches monocristallines à partir de composés semi-conducteurs
摘要
申请公布号 BE611878(A1) 申请公布日期 1962.04.16
申请号 BE19610611878 申请日期 1961.12.22
申请人 SIEMENS-SCHUCKERTWERKE AKTIENGESELLSCHAFT 发明人
分类号 (IPC1-7):H01L 主分类号 (IPC1-7):H01L
代理机构 代理人
主权项
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