| 主权项 |
1.一种光学相移器,用以将一相位移加至一通过该相移器之光学讯号当中,该光学相移器至少包含:一第一波导,具有一轴蕊,该轴蕊定义该第一波导的光径;一第二波导,具有一轴蕊,该轴蕊定义该第二波导的光径,其中该第一波导之光径与该第二波导之光径同轴,且该第一及第二波导之间以一沟渠隔开;一相移零件,位于该沟渠之内,该沟渠则位于该第一及第二波导之间;一致动器,耦合至该相移零件,以使该相移零件能在一第一位置及一第二位置之间选择性移动,其中该相移零件位于该第一位置时,一从该第一波导出发、经过沟渠并行进至该第二波导的光讯号会经过该相移零件,而该相移零件位于该第二位置时,该光讯号不经过该相移零件,当该相移零件位于该第一位置时将该相位移加入该光讯号当中。2.如申请专利范围第1项所述之光学相移器,其中该第一及第二波导位于一平面上,且该致动器会使该相移零件沿该平面之该沟渠在该第一及该第二位置间移动。3.如申请专利范围第1项所述之光学相移器,其中该第一及第二波导位于一平面上,且该致动器会使该相移零件在该第一及该第二位置间移动,以沿一与该平面相截之线而进入或离开该沟渠。4.如申请专利范围第1项所述之光学相移器,其中该相移零件具有两大致为平面的墙。5.如申请专利范围第4项所述之光学相移器,其中该两大致为平面的墙不会彼此靠近,且该相移零件会将一大致为固定之相位移移进该光讯号当中。6.如申请专利范围第4项所述之光学相移器,其中该两大致为平面之墙彼此互相靠近,且该相移零件的长度及宽度随该长度而变,而该第一位置为任何沿该长度市的位置,且该相移零件对该光讯号加入之相位移视该该相移零件之宽度而定。7.如申请专利范围第1项所述之光学相移器,其中该相移零件的外形为阶梯状。8.如申请专利范围第7项所述之光学相移器,其中该相移零件在两侧上都为阶梯状。9.如申请专利范围第7项所述之光学相移器,其中该相移零件在一侧上为阶梯状。10.如申请专利范围第1项所述之光学相移器,其中该致动器为闩锁型装置。11.如申请专利范围第10项所述之光学相移器,其中该致动器为一静电装置。12.如申请专利范围第10项所述之光学相移器,其中该致动器为一热电装置。13.如申请专利范围第1项所述之光学相移器,其中该相位移之値介于0至之间。14.如申请专利范围第1项所述之光学相移器,其中该沟渠宽度介于8至40微米之间。15.如申请专利范围第14项所述之光学相移器,其中该沟渠宽度介于12至20微米之间。16.如申请专利范围第1项所述之光学相移器,其中该第一及第二波导之至少一者具有一切平面。17.如申请专利范围第16项所述之光学相移器,其中该切平面相对于一对应之波导轴为倾斜者。18.如申请专利范围第16项所述之光学相移器,其中该切平面相对于该相对波导轴以6度至10度之角度倾斜。图式简单说明:第1图为一光学相移器的前视图,该相移器具有一固定相移零件,其建构并依本发明之一实施例为之,该图中示意说明该相移零件的一第一移动方向。第2图为沿第1图中光学相移器之线2-2所截出之剖面图;第3图为沿第1图中光学相移器之线2-2所截出之剖面图,其中并说明该相移零件的一第二移动方向;第4图为一光学相移器之前视图,其具有一可变相移零件,其建构并系依本发明之一实施例为之。第5图为一光束通过第4图之一可变相移零件的上视图;第6A图为一步阶式可变相移零件之一实施上视图。第6B图为截自第6A图之步阶式可变相移零件之线6-6所得到的高处视图;第6C图为一阶梯式可变相移零件之另一实施例的上视图;第7图为根据本发明一实施例所建构之一热电致动器的部份剖面示意图;第8A及8B图为根据本发明实施例所建构之两热电致度器实施例的部份剖面示意图;第9图为截自第1图之线9-9所得到的一波导剖面图,其系根据本发明之一实施例所建构者;第10图为一波导及倾斜切平面的上视图,其中该两者为本发明之一光学相移零件的一部份;第11A及11B图所示为一通过波导间沟渠之光束绕射及沟渠长度间的关系图;第12A及12B图之示意图说明降低通过沟渠之光绕射情形的方式范例;第13图之示意图说明沿一相移零件置放之对位波导;第14A及14B图为依本发明之一实施例对一光学切换器进行组立的说明。第15A及15B图为本发明之光学切换器结构之部份的部份侧边剖面图,其中该光学切换器系分别依本发明利用覆晶及单石制造技术、并加以外部零件及与硬体连接的方式而制成。 |
