| 主权项 |
1.一种其用以将意欲传送融熔玻璃之沟流(1)形状中至少一温度均等化区里融熔玻璃间温度差异予以均等化之方法,该区位于流出孔(2)之上游,在该孔中玻璃出料进入成形机器或其类之铸模内,其特征为在温度均等化区之铸壁(12,13)、底(14)及顶(15)提供电阻加热元件(16-19;18,19;24-29),且造成测量与电阻加热元件接触之个别铸壁、底及顶的表面温度,且造成该电阻加热元件以电子控制器(31-34)控制,而使该表面之温度相等于或大抵相等于融熔玻璃之预定流出温度。2.根据申请专利范围第1项的方法,其特征为电阻加热元件(16-19;18,19;24-29)为沿着温度均等化区成一定间隔排列。3.根据申请专利范围第1或2项的方法,其特征为与电阻加热元件(16-19;18,19;24-29)接触之个别铸壁(12,13)、底(14)及顶(15)的表面温度测量当作个别电阻加热元件的温度。4.根据申请专利范围第1项的方法,其特征为电阻加热元件(16-19)包含螺旋状元件,其装在包含该沟流之陶器材料外表面之陶管上。5.根据申请专利范围第1项的方法,其特征为电阻加热元件(18,19;24-29)包含带形电阻加热元件,其装在包含该沟流(1)陶器材料(3)外表面上。6.根据申请专利范围第1项的方法,其特征为温度均等化区造成具有相对于该沟流(1)的宽度1-2倍之长度。7.一种其用以将意欲传送融熔玻璃之沟流(1)形状中至少一温度均等化区里融熔玻璃间温度差异予以均等化之设备,该区位于流出孔(2)之上游,在该孔中玻璃出料进入成形机器或其类之铸模内,其特征为在温度均等化区之铸壁(12,13)、底(14)及顶(15)提供电阻加热元件(16-19;18,19;24-29),且提供热电偶(20-23)以测量与该电阻加热元件接触之个别铸壁(12,13)、底(14)及顶(15)的表面温度,且提供电子控制器(31-34)以控制该电阻加热元件,而使该表面之温度相等于或大抵相等于融熔玻璃之预定流出温度。8.根据申请专利范围第7项之设备,其特征为电阻加热元件(16-19;18,19;24-29)沿着温度均等化区成一定间隔之排列。9.根据申请专利范围第7或8项之设备,其特征为电阻加热元件(16-19)包含螺旋状元件,其装在包含该沟流(1)陶器材料(3)外表面之陶管上。10.根据申请专利范围第7项之设备,其特征为电阻加热元件(18,19;24-29)包含带形电阻加热元件,其装在包含该沟流(1)陶器材料(3)外表面上。11.根据申请专利范围第7项之设备,其特征为为温度均等化区造成具有相对于该沟流的宽度1-2倍之长度。图式简单说明:图1表示依本发明温度均等化区部份沿经度方向所得横断面。图2表示温度均等化区之顶视图且表示电阻加热元件的位置。图3表示温度均等化区之横断表面示意图。图4表示温度均等化区沟流中的热电偶的位置。图5表示电子控制设备的流程图。 |
