发明名称 形成微图案的光照方法和装置
摘要 本发明提供一种形成微图案的光照方法装置,它能在减少反差间隙的同时,使反差获得改善,从而实现半导体器件的高集成度。其中采用偏振光作为光源,并调节偏振光的偏振角和椭圆率,由此优化反差和反差间隙另外,光照装置包含从光源发射的光偏振用的偏振片,偏振片调整决定反差的偏振角和决定反差间隙的椭圆率。
申请公布号 CN1101007C 申请公布日期 2003.02.05
申请号 CN96123105.X 申请日期 1996.12.09
申请人 现代电子产业株式会社 发明人 全成镐;李圣默;赵倍斗
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 上海专利商标事务所 代理人 张政权
主权项 1.一种通过光源成像于晶圆片上形成图案的光照方法,其特征在于包含以下步骤:提供偏振光作为光源;调节决定反差的偏振光的偏振角;调整决定反差间隙的偏振光的椭圆率;由此优化照射到晶圆片上的图像的反差和反差间隙。
地址 韩国京畿道