发明名称 | 形成微图案的光照方法和装置 | ||
摘要 | 本发明提供一种形成微图案的光照方法装置,它能在减少反差间隙的同时,使反差获得改善,从而实现半导体器件的高集成度。其中采用偏振光作为光源,并调节偏振光的偏振角和椭圆率,由此优化反差和反差间隙另外,光照装置包含从光源发射的光偏振用的偏振片,偏振片调整决定反差的偏振角和决定反差间隙的椭圆率。 | ||
申请公布号 | CN1101007C | 申请公布日期 | 2003.02.05 |
申请号 | CN96123105.X | 申请日期 | 1996.12.09 |
申请人 | 现代电子产业株式会社 | 发明人 | 全成镐;李圣默;赵倍斗 |
分类号 | G03F7/20;H01L21/027 | 主分类号 | G03F7/20 |
代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 张政权 |
主权项 | 1.一种通过光源成像于晶圆片上形成图案的光照方法,其特征在于包含以下步骤:提供偏振光作为光源;调节决定反差的偏振光的偏振角;调整决定反差间隙的偏振光的椭圆率;由此优化照射到晶圆片上的图像的反差和反差间隙。 | ||
地址 | 韩国京畿道 |