| 发明名称 | 用于聚合反应器涂层的防垢剂 | ||
| 摘要 | 本发明涉及生产用于涂覆单体聚合反应器的防垢剂的方法，其特征在于所述防垢产品是通过羟甲基亚磺酸钠盐和萘酚的反应制得的。 | ||
| 申请公布号 | CN1100065C | 申请公布日期 | 2003.01.29 |
| 申请号 | CN96194525.7 | 申请日期 | 1996.05.31 |
| 申请人 | C·I·R·S·公开有限公司 | 发明人 | 马里奥·萨蒂恩 |
| 分类号 | C08F2/00 | 主分类号 | C08F2/00 |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 王维玉 |
| 主权项 | 1.生产用于涂覆单体聚合反应器的防垢剂的方法，其中所述防垢剂产品是通过羟甲基亚磺酸钠盐和萘酚反应制得的，其特征在于所述的产品是使用羟甲基亚磺酸与1-萘酚在氮气氛下，pH为11-13的碱性环境中，以重量比为1～1.5于10～40％的水溶液中，在70°到95°下混合得到的，由本方法得到的产品在与氧气隔绝的情况下是清晰透明的。 | ||
| 地址 | 意大利罗维戈 | ||