缺陷检查装置及其方法

摘要

本发明涉及缺陷检查装置及其方法，缺陷检查装置包括第一光学系统，第二光学系统及运算装置。第一光学系统设有将光同轴反射照射在被检查物表面上的第一光源(6)和受取来自被检查物的正反射光将其变换成第一电信号的第一摄像手段(10)；第二光学系统设有使光斜射在被检查物上的第二光源(11)和受取来自被检查物的散射光将其变换成第二电信号的第二摄像手段(13)；运算装置(14)将第一电信号与预先设定的第一阈值比较，检出被检查物表面凹凸状缺陷，将第二电信号与预先设定的第二阈值比较，检出被检查物的色浓淡不匀状缺陷。能高效地检查凹凸状缺陷和浓淡不匀状缺陷，减少因过剩检查而引起的损失。

主权项

1.一种缺陷检查装置，其特征在于，包括：第一光学系统，设有将光同轴反射照射在被检查物表面上的第一光源以及受取来自被检查物的正反射光再将其变换成第一电信号的第一摄像手段；第二光学系统，设有使光斜射照在被检查物上的第二光源以及受取来自被检查物的散射光再将其变换成第二电信号的第二摄像手段；运算装置，将来自第一摄像手段的第一电信号与预先设定的第一阈值进行比较，检出被检查物表面凹凸状缺陷，将来自第二摄像手段的第二电信号与预先设定的第二阈值进行比较，检出被检查物的色浓淡不匀状缺陷。