发明名称 | 晶体薄膜、其制备方法、使用其的元件、电路以及设备 | ||
摘要 | 提供生产晶体薄膜的方法,包括将具有各个区域的起始薄膜进行熔化和再固化,所述区域在其状态上彼此不同而连续共存。起始薄膜的小区域所具有的晶粒或晶体簇的数目浓度的尺寸分布与周围区域不同。在熔化和再固化过程中,优先在一个区域中生长晶粒以控制晶粒在晶体薄膜中的位置。 | ||
申请公布号 | CN1390986A | 申请公布日期 | 2003.01.15 |
申请号 | CN02122161.8 | 申请日期 | 2002.05.31 |
申请人 | 佳能株式会社 | 发明人 | 云见日出也;水谷英正;近藤茂树 |
分类号 | C30B1/06;H01L21/20;H01L21/84;H01L27/12 | 主分类号 | C30B1/06 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王杰 |
主权项 | 1.一种生产晶体薄膜的方法,它包括将具有多个区域的起始薄膜进行熔化和再固化,所述区域在其状态上彼此不同而连续共存。 | ||
地址 | 日本东京 |