发明名称 Vertikal-Transistor, Speicheranordnung sowie Verfahren zum Herstellen eines Vertikal-Transistors
摘要 Ein Vertikal-Transistor (100) weist auf einen Source-Bereich (103), einen Drain-Bereich (109), einen Gate-Bereich (108), und einen Kanalbereich (104) zwischen dem Source-Bereich (103) und dem Drain-Bereich (109), welche in vertikaler Richtung in einem Halbleitersubstrat (101) angeordnet sind, wobei der Gate-Bereich (104) eine elektrische Isolierung zum Source-Bereich (103), zum Drain-Bereich (109) und zum Kanalbereich (104) aufweist und derart um den Kanalbereich (104) angeordnet ist, dass der Gate-Bereich (108) und der Kanalabereich (104) eine koaxiale Struktur bilden.
申请公布号 DE10130766(A1) 申请公布日期 2003.01.09
申请号 DE20011030766 申请日期 2001.06.26
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 HEGEMEYER, PETER
分类号 H01L21/28;H01L21/336;H01L27/115;H01L29/78;H01L29/792;(IPC1-7):H01L29/78;H01L27/105 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人
主权项
地址