| 发明名称 | 从离子束中和装置和注入装置就地清除污染物用的方法和装置 | ||
| 摘要 | 提供清除粘结在离子束中和装置(46)和离子束注入装置(10)的离子束注入室(18)内表面的污染物的方法和装置。污染物是用等离子体辉光放电从中和装置和注入装置清除的。污染物还用离子束膨胀的方法从中和装置清除。 | ||
| 申请公布号 | CN1097301C | 申请公布日期 | 2002.12.25 |
| 申请号 | CN96109322.6 | 申请日期 | 1996.08.28 |
| 申请人 | 艾克塞利斯技术公司 | 发明人 | Ｊ·Ｇ·布莱克 |
| 分类号 | H01L21/265;H01L21/322 | 主分类号 | H01L21/265 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 吴增勇;萧掬昌 |
| 主权项 | 1.一种自清洁离子束中和装置(46)，其特征在于它包括：由离子束注入系统(10)的支持结构(64)伸出的中空体的靶(60)，用来向中空体靶(60)内壁发射高能电子，以产生低能二次电子或从所述中空体内部的等离子体吸引出低能电子的电子发射装置，与所述中空体靶邻接并与之电绝缘的长型中空件延伸管(62)，以及用来产生等离子体辉光放电以便从所述中空体靶和所述长型延伸管清除污染物的清洁装置。 | ||
| 地址 | 美国马萨诸塞州 | ||