| 发明名称 |
PATTERNING COMPOSITIONS USING E-BEAM LITHOGRAPHY AND STRUCTURES AND DEVICES MADE THEREBY |
| 摘要 |
A method of patterning a layer of e-beam sensitive dielectric material, such as bisbenzocyclobutene monomers, using electron beam lithography.
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| 申请公布号 |
WO02101463(A1) |
申请公布日期 |
2002.12.19 |
| 申请号 |
WO2002US18240 |
申请日期 |
2002.06.07 |
| 申请人 |
THE PENN STATE RESEARCH FOUNDATION |
发明人 |
LAVALLEE, GUY, P.;CATCHMARK, JEFFREY, M.;LEE, YOUNGCHUL |
| 分类号 |
A61N5/00;G03C5/00;G03F7/004;G03F7/075;G03F7/20;G21G5/00;(IPC1-7):G03C5/00 |
主分类号 |
A61N5/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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