| 摘要 |
<p>Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Erwärmung von Substraten mit einem Emitter (1) zur Emission elektromagnetischer Strahlung (6) im Wellenlängenbereich von 200 nm bis 10000 nm sowie mit einem primären Reflektor (2), wobei der oder die primären Reflektoren (2) im Querschnitt in Form eines Polygonzuges oder einer Kurve ausgebildet sind und wobei in dem nachfolgenden Bereich zwischen dem Emitter (1) und dem zu bestrahlenden Substrat (5) oder einseitig oder beidseitig von diesem Bereich oder diesen bereich vollständig oder abschnittsweise umlaufen ein oder mehrere Blenden (3) und/oder sekundäre Reflektoren (9) vorgesehen sind, welche im Querschnitt in Form eines Polygonzuges oder einer Kurve ausgebildet sind, wobei die auf das Substrat (5) auftreffende Strahlung (6, 7) hinsichtlich ihrer Energieverteilung weitgehendst homogen ist.</p> |
